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深圳市夢啟半導(dǎo)體裝備有限公司

單面CMP拋光機

型號:DL-855/4P-CMP

單面拋光機是單面精密拋光設(shè)備,采用先進的機械結(jié)構(gòu)和多種先進控制方法,拋光加工效率高,運行穩(wěn)定。

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單面CMP拋光機
設(shè)備優(yōu)勢

◎ 本設(shè)備為單面精密拋光設(shè)備,采用先進的機械結(jié)構(gòu)和多種先進控制方法,拋光加工效率高,運行穩(wěn)定。


◎ 整機采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng),設(shè)備參數(shù)設(shè)置和操作簡單方便,系統(tǒng)運行穩(wěn)定性高。


◎ 主電機采用變頻調(diào)速控制,實現(xiàn)主機軟啟動、軟停機降低設(shè)備運行沖擊,減少工件損傷。


◎ 工件拋光壓力采用氣缸加壓方式,通過電氣比例閥控制實現(xiàn)壓力的閉環(huán)控制,保證極高的施壓精度與穩(wěn)定性。


◎ 上壓盤采用主動驅(qū)動方式,在確保產(chǎn)品撤光速率的前提下保證各工位拋光加工的統(tǒng)一性。


◎ 拋光盤與上壓盤都設(shè)置了冷卻水冷卻功能,在保證拋光液發(fā)揮最大效率的同時減少拋光盤面的變形。


性能參數(shù)
參數(shù)名稱單位DL-855/4P-CMP
主電源V三相 380
主電機功率KW15
主電機轉(zhuǎn)速RPM0~85
上盤驅(qū)動電機轉(zhuǎn)速RPM0~70
拋光盤尺寸mm855
加工尺寸2-8
工作工位4
工件盤尺寸
mmΦ305x15
單工位壓力Kg20~300
拋光液流速L/min15(可調(diào))
主盤溫度檢測±5
設(shè)備尺寸(W x D x H)mm1200x1650x2250
設(shè)備重量Kg約2450
選擇我們的優(yōu)勢?

CMP拋光機根據(jù)客戶不同的需求進行定制,滿足不同客戶的需求,擁有專業(yè)技術(shù)團隊,設(shè)備精度高,負責(zé)上門安裝調(diào)試及培訓(xùn)

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