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晶圓拋光機(jī)廠家
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高精度晶圓研磨機(jī)核心特點(diǎn)

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發(fā)布時(shí)間 : 2025-04-14 11:18:07

        高精度晶圓研磨機(jī)通過(guò)納米級(jí)精度控制、智能自動(dòng)化、高穩(wěn)定性設(shè)計(jì),成為半導(dǎo)體制造中不可或缺的核心設(shè)備。其支持大直徑晶圓與復(fù)雜材料加工,適配先進(jìn)制程需求,助力芯片性能提升與成本優(yōu)化。以下是 高精度晶圓研磨機(jī)核心特點(diǎn):

       一、超高精度與穩(wěn)定性

       1、納米級(jí)定位精度,轉(zhuǎn)臺(tái)定位精度達(dá)±2.5μm,重復(fù)定位精度±1μm,滿足晶圓超精密研磨需求。通過(guò)光柵編碼器實(shí)現(xiàn)閉環(huán)控制,確保微米級(jí)厚度一致性;

       2、抗振動(dòng)設(shè)計(jì),采用液靜壓軸承和軸芯油膜懸浮技術(shù),無(wú)磨損運(yùn)行,顯著提升加工穩(wěn)定性;

       3、油膜緩沖機(jī)械振動(dòng),降低表面波紋度,支持納米級(jí)表面粗糙度(Ra≤0.016μm)。


高精度晶圓研磨機(jī)


       二. 先進(jìn)主軸與電機(jī)技術(shù)

       1、高性能驅(qū)動(dòng)系統(tǒng),三相交流永磁同步電機(jī),功率1.3kW,轉(zhuǎn)速142rpm,動(dòng)態(tài)響應(yīng)迅速;

       2、搭配氣動(dòng)鉗夾,鎖緊力矩增強(qiáng),確保加工過(guò)程無(wú)位移;

       3、砂輪配置多樣化,支持金剛石(Diamond)或立方氮化硼(CBN)砂輪,適配不同材料(如SiC、GaN);

       4、砂輪粒度可調(diào),粗磨(快速去料)與精磨(表面拋光)自動(dòng)切換,提升效率。


高精度晶圓研磨機(jī)


       三. 自動(dòng)化與智能化控制

       1、柔性生產(chǎn)模式,全自動(dòng)/半自動(dòng)雙模式切換,支持多工藝配方(Recipes)存儲(chǔ)與調(diào)用;17寸觸控屏實(shí)時(shí)監(jiān)控氣壓、電流、水流及厚度參數(shù),異常自動(dòng)報(bào)警;

       2、閉環(huán)控制系統(tǒng),PLC控制器結(jié)合位移傳感器(如Magnescale),實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)厚度控制,厚度偏差(TTV)控制在3μm以內(nèi),片間均勻性達(dá)98%以上。

3、產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)一750.jpg


       四. 廣泛的應(yīng)用兼容性

       1、大直徑晶圓支持,兼容2-8寸晶圓,樣品臺(tái)直徑400mm,適配300mm大直徑晶圓加工需求,真空夾具支持多尺寸晶圓固定,防止邊緣崩邊。

       2、材料多樣性,可研磨AlN、GaAs、SiC、Si等多種半導(dǎo)體材料,適配化合物半導(dǎo)體工藝,支持先進(jìn)制程(如FinFET、3D NAND),滿足復(fù)雜結(jié)構(gòu)加工。


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       五. 高效性與低損耗

       1、快速加工能力,粗磨速度1000μm/min,精磨速度2-1000μm/min,支持Z向切入式研磨,單次可加工32片2寸晶圓,顯著提升吞吐量;

       2、低成本運(yùn)行,磨削液循環(huán)使用,硅屑細(xì)小易清洗,減少耗材更換頻率,全封閉研磨區(qū)設(shè)計(jì),防止粉塵污染,延長(zhǎng)設(shè)備壽命。

      

       深圳市夢(mèng)啟半導(dǎo)體裝備有限公司專(zhuān)業(yè)研發(fā)和生產(chǎn)晶圓減薄機(jī),晶圓倒角機(jī),CMP拋光機(jī),晶圓研磨機(jī),碳化硅減薄機(jī),半導(dǎo)體減薄機(jī),硅片減薄機(jī),晶圓拋光機(jī);

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